Энциклопедический словарь нанотехнологий
ЛИТОГРАФИЯ РЕНТГЕНОВСКАЯ
- Термин
- литография рентгеновская
- Термин на английском
- Синонимы
- Аббревиатуры
- Связанные термины
- литография
- Определение
- технология электронных микросхем; вариант литографии, использующий экспонирование (облучение) резиста с помощью рентгеновских лучей
- Описание
Рентгеновская литография использует мягкое рентгеновское излучения с длиной волны 0.5-4.0 нм. Пучок рентгеновских лучей пропускается через шаблон и экспонирует слой резиста. Оптическими элементами рентгеновских литографических установок могут быть отражающие зеркала (рефлекторы) на основе наногетероструктур со слоями Ni-C, Cr-C, Co-C, Mo-C, W-C и зонные пластинки; в качестве шаблонов используются тонкие (1 мкм и меньше) металлические мембраны.Многослойные рентгеновские зеркала обеспечивают брэгговское отражение при условии d =?/(2sin?), где d - период структуры и ?- угол скольжения. При перпендикулярном падении излучения? = 90° и период d = ?/2, поэтому толщина каждого слоя в рентгеновском зеркале равна примерно?/4 или 1 нм. Рентгенолитография, как и оптическая литография, осуществляется путем одновременного экспонирования большого числа деталей рисунка, но коротковолновое рентгеновское излучение позволяет создавать рисунок с более тонкими деталями и более высоким разрешением.
- Авторы
- Гусев Александр Иванович, д.ф.-м.н.
- Ссылки
- А. И. Гусев. Наноматериалы, наноструктуры, нанотехнологии. Изд. 2-е, исправленное и дополненное. Москва: Наука-Физматлит, 2007. 416 с.
- Иллюстрации
- Теги
- Разделы
- Рентгеновская литография
Управляемые методы формирования наноструктур
Технология